| 加工定制 | 是 |
|---|---|
| 水质 | 16兆欧 |
| 单机出力 | 6（/h） |
| 电压 | 380（V） |
| 水电阻率 | 标准 |
| 品牌 | 格瑞水务 |
| 型号 | GR-RO |
半导体晶片切割制造用纯净水设备 半导体纯水处理设备
超纯水在太阳能行业、硅片切割行业的应用，半导体晶片切割制造用水工艺
一、应用范围概述:
电解电容器生产铝箔及工作件的清洗
电子管生产电子管阴极涂敷碳酸盐配液
显像管和阴极射线管生产配料用纯水
黑白显像管荧光屏生产玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水
液晶显器的生产屏面需用纯水清洗和用纯水配液
晶体管生产中主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制
集成电路生产中高纯水清洗硅片
二、典型工艺流程
预处理系统-反渗透系统-中间水箱-粗混合床-精混合床-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)(传统工艺)
预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)(新工艺)
预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透(正电荷反渗膜)-纯水箱-纯水泵-EDI装置-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥17MΩ.CM) (新工艺)
预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥15MΩ.CM)(新工艺)
处理系统-反渗透系统-中间水箱-纯水泵-粗混合床-精混合床-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象(≥15MΩ.CM)(传统工艺)
